Disponemos entre otros de los siguientes equipos de precisión:
Máquina de visión: Aparato de metrología MMC de no contacto. Se utiliza para medir piezas o estructuras extremadamente pequeñas así como detalles pequeños o aquellas que se puedan deteriorar por contacto. La medición se basa en la técnica de procesado de imágenes. El modelo instalado en el IFCA es el Quick Scope QS200Z de Mitutoyo.
Perfilómetro: Se trata del modelo Scan Explorer de Nanofocus. Se compone de sensores cromáticos con focales que nos permite observar con una resolución de 15 nm los cambios en una superficie en la dirección perpendicular a esta. Dispone de software de manejo de máquina y de software de tratamiento de datos obtenidos. Se pueden utilizar varias unidades con sensores diferentes, cada una con una precisión y resolución diferentes.
Máquina de medición por coordenadas: Se trata de una máquina de medición por contacto de la casa Mitutoyo, modelo Crysta Apex C 574. Este equipo dispone de un sistema de compensación de las fluctuaciones dimensionales de la propia máquina por variación de temperatura respecto a 20 °C. Permite realizar medidas con un precisión del orden de micras.
Interferómetro: Calibrado en el 2009 por el CEM, se trata de un modelo AGILENT 5529. Nos permite realizar medidas de distancia, así como de ángulos, rectitud y planitud. Dispone de un sistema de control ambiental que nos permite eliminar los errores en el cálculo debido a las condiciones atmosféricas. La precisión, resolución y exactitud dependen de la configuración y la magnitud a medir, ya que dispone de distintos conjuntos de piezas ópticas de alta precisión que nos permiten medir diferentes variables. La precisión de la medidas es inferior a la micra.
Sistemas de caracterización eléctrica: Para realizar la caracterización eléctrica de dispositivos semiconductores se dispone de un sistema que permite obtener con gran precisión las curvas Corriente-Voltaje (I-V) y Capacidad-Voltaje (C-V) de dispositivos semiconductores tales como sensores de silicio, diodos, etc. Así como la medición de capacitancias, resistencias y demás parámetros eléctricos directamente en el dispositivo a caracterizar.
Estación de puntas: Se trata de un Analytical probe station Everbeing Model BD-8 que incluye mesa de soporte para obleas (wafers) de hasta 200mm, sistema de desplazamiento milimétrico manual, microscopio, soporte de puntas de prueba, puntas de prueba con controladores para microposicionamiento manual, cámara digital con software, mesa anti-vibratoria, caja de faraday para apantallamiento, bomba de vació para sujeción de obleas en el chuck, etc.
Sistema de caracterización de semiconductores: Se trata de una máquina Keithley 4200-SCS que constituye la solución más efectiva para el desarrollo de tecnologías sobre semiconductores, modelado de dispositivos semiconductores, caracterización, etc. Es un equipo modular cuyos módulos o unidades van a depender de la actividad a realizar. El equipo con el que cuenta el IFCA incluye una unidad de medida de C-V y dos módulos fuente y medidor (Source Measure Unit, SMU) para medidas de I-V. El rango de voltaje de la fuente va hasta los 200 voltios y el nivel de corriente medida del orden de los femto amperios (1x10-15 Amperios).
Elipsómetro espectroscópico: De ángulo variable y modular compatible con sala blanca, modelo GES5E de SOPRA LAB. Se emplea para caracterización “NDK” (índice de refracción, índice de absorción, grosor) para medios multicapa. Puede operar en modo espectrómetro UV-VIS-NIR de alta resolución (rango espectral de trabajo: 250 nm -2000 nm) y en modo espectrógafo rápido CCD UV_VIS (rango 250nm-1000nm). ). La técnica óptica de elipsometría permite el análisis de superficies de modo no destructivo, con alta sensibilidad, gran rango de medida y reproductibilidad. La elipsometría espectroscópica permite la medida de estructuras complejas como multicapas, interfases y heterogeneidades. El equipo permite su extensión para aplicaciones de fotometría y escatometría, aasi como para trabajos en temperatura y control ambiental.
El laboratorio cuenta desde el 2011 con la certificación de calidad ISO 9001 para la caracterización eléctrica de semiconductores.
